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1. 钼靶材的用途？

1、钼靶材的用途？

1.宽幅钼靶材又叫超宽高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了内宽幅钼靶(1800mm)空白，对公司未来的市场拓展、业绩成长产生重要影响。

　　2、溅射靶材的要求较传统材料行业高，般要求：尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。

　　3、磁控溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势。作为项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多域。

　　4、溅射技术，溅射是制备薄膜材料的主要技术之，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

　　5、溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。

钼靶材在多个领域中有广泛的应用，以下是钼靶材的一些常见用途：

1. 薄膜沉积：钼靶材可用于物理气相沉积（PVD）或磁控溅射等技术制备钼薄膜。这些薄膜通常具有优异的导电性能、高熔点和耐腐蚀性，因此常用于制备导电层、阻挡层、金属连接线等应用。在集成电路制造和薄膜太阳能电池等领域，钼薄膜是常见的材料。

2. 真空设备和热障涂层：由于钼的高熔点、低蒸发率和良好的热稳定性，钼靶材可用于制备真空设备中的部件，如钨钼合金阀门、钨钼加热器等。此外，钼也可用于制备高温应用中的热障涂层，用于提高材料的耐热性能和保护基底材料。

3. 光学涂层：钼靶材在光学领域中也有应用。通过沉积钼薄膜，可以制备具有特定光学性质的涂层，如反射镜、滤光片和透射膜。钼薄膜在红外光谱范围具有良好的反射性能，因此常用于红外光学器件和激光系统中。

4. 电子器件：钼靶材在电子器件制造中也有重要应用。例如，在显示技术中，钼薄膜可用作显示器的背板，具有良好的导电性和热稳定性。此外，钼也被用作电子器件中的触点、电极和导线材料。

5. 材料研究和实验室应用：钼靶材在科学研究和实验室应用中也广泛使用。它可以作为目标材料用于研究薄膜生长、表面修饰和材料特性等方面。此外，钼靶材还可以用于电子显微镜（SEM）样品制备、X射线荧光光谱仪（XRF）标准等应用

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