离子注入机应用领域(离子注入机应用领域是什么)
作者:admin • 更新时间:2024-05-30 06:00:06 •阅读
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1、什么是离子注入机?
离子源是离子注入机的主要部位,作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子,决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子,当外来电子的能量高于原子的电离电位时,通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外,还出现正电子和二次电子。
离子注入机是集成电路制造前工序中的关键设备,离子注入是对半导体表面附近区域进行掺杂的技术,其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。
离子注入机:离子注入机是将掺杂原子注入硅片的设备,通过掺杂可以改变硅片的电性质,实现电路的控制和调节。CVD设备:CVD即化学气相沉积,是制作芯片必须的技术之一,主要用于电路的金属线路、电容等部件的制作。薄膜设备:薄膜设备主要用于制作芯片上的金属电极和敏感元件等。
将光阻层图案投射到硅片上。离子注入机:用于半导体制造中的掺杂工艺,将杂质原子注入到硅片上,改变硅片电学性质。等离子刻蚀机:用于半导体制造中的刻蚀工艺,将光刻后的图案刻蚀到硅片上。薄膜沉积机:用于半导体制造中的薄膜制备工艺,将金属或者氧化物等材料沉积到硅片表面。
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